Please use this identifier to cite or link to this item: http://sutir.sut.ac.th:8080/jspui/handle/123456789/10140
Title: The oxidation reactivity at surface of hafnium diselenide in vacuum and atmospheric pressure environment
Other Titles: ปฏิกิริยาออกซิเดชันที่พื้นผิวของแฮฟเนียมไดเซเลไนด์ในสภาวะสุญญากาศและความดันบรรยากาศ
Authors: Suwat Thila
Advisor: Worawat Meevasana
Keywords: Photoemission electron microscopy;X-ray;X-ray photoemission spectroscopy;Hafnium diselenide
Issue Date: 2021
Publisher: School of Physics Institute of Science Suranaree University of Technology
URI: http://sutir.sut.ac.th:8080/jspui/handle/123456789/10140
Appears in Collections:วิทยานิพนธ์ (Thesis)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Abstract.pdfAbstract663.75 kBAdobe PDFView/Open
Fulltext.pdfFulltext3.62 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.